• 紫外光源：曝光系統(tǒng)最核心 ?????? 常見光源分為: ?????? 紫外光（UV），g線：436nm;i線：365nm ?????? 深紫外光（DUV）...2015-01-30 16:11:16
• 微液滴中的單細胞封裝多能性人間充質干細胞或牛軟骨細胞的微滴（圖5A）。通過下游通道中的外部紫外光源對微滴進行光交聯(lián)，以制備細胞負載微凝膠并保持高細胞活性。通過流式細胞術...2025-03-18 08:55:32
• 光刻膠的保存和老化失效曝光前保存數(shù)周而不會降低曝光的質量。但是需要注意保存條件，避免紫外（含紫外光源）的曝光，避免顆粒等污染物吸附在襯底上，部分特殊光刻膠需要注意空氣氣氛...2024-07-08 10:08:57
• 光刻膠的硬烘烤技術外殼”，在一定程度上保護了光刻膠結構不受加熱的影響。如果沒有可用的深度紫外光源，標準掩模對準式光刻機也可用g-線、h-線和i-線進行輻照。當然，這種...2024-07-01 11:48:28
• 微流控芯片制備加工方法墨技術可直接將墨滴噴射到電路板上，從而精確繪制電路圖。③紫外光刻技術：紫外光源因為其具有較短的波長、高的光子能量、加工分辨率高等優(yōu)勢，在高精度加工領...2024-03-05 10:20:27
• 一文了解SU-8光刻膠得樹脂變得易于溶解?；瘜W放大光刻膠曝光速遞是DQN光刻膠的10倍，對深紫外光源具有良好的光學敏感性，同時具有高對比度，對高分辨率等優(yōu)點。?（化學放大...2023-07-25 08:58:21
• 量子點材料的研究現(xiàn)狀及在光致發(fā)光和電致發(fā)光領域的應用了81；Lin等在柔性襯底上混合不同顏色cdse／Zns的量子點并使用紫外光源作為激發(fā)光，最高達到了96的顯色指數(shù)。????此外，在量子點中引入有光...2019-10-31 14:17:55
• 中國科學院光電技術研究所研制出實用深紫外光刻機所微電子專用設備研發(fā)團隊積極響應客戶需求，大膽創(chuàng)新，成功解決了低成本深紫外光源、深紫外高均勻性勻光技術、新型深紫外介質膜鍍膜技術以及非球面準直技術等...2017-07-28 16:03:16
• PDMS芯片表面改性技術向表面擴散，導致表面接枝層密度減小。另外，物理改性需要等離子體發(fā)生器、紫外光源等設備，有些還比較昂貴。特別要指出的是：通過等離子體和紫外光處理后，兩...2017-01-13 10:03:08
• 光刻機的簡單介紹量的需要，恩科優(yōu)的NXQ8000系列可以一個小時處理幾百片wafer。紫外光源曝光系統(tǒng)最核心的部件之一是紫外光源。常見光源分為:紫外光（UV），g線...2016-04-18 11:54:16