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- SU8 光刻膠使用方法及注意事項(xiàng)使用方法基底準(zhǔn)備在使用SU-8光刻膠之前,基板應(yīng)保持清潔和干燥.清潔基板的方法包括使用硫酸和過氧化氫的混合液(piranha etch)進(jìn)行濕法清洗,...2024-09-27 09:37:13
- 硅片模具???? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 硅片注塑模具? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ...2025-04-03 21:58:22
- 光刻加工寬5μm,高度5μm到400μm可控,誤差在5-10%;光刻膠種類:進(jìn)口SU8系列,國產(chǎn)SU8系列,進(jìn)口AZ50XT,AZ9260;光刻膠模具優(yōu)點(diǎn):圖...2025-04-03 21:58:22
- 純硅模具純硅模具介紹在微流控芯片的加工過程中,除了使用SU8實(shí)惠的模具,還需要高精度的純硅模具。一般在以下情況我們會(huì)選擇加工純硅模具:1、需要比SU-8模具更高的深寬比;2、模具的加工精度誤差在1μm以內(nèi)...2025-04-03 21:58:22
- Microchem SU-8光刻膠 2000系列8 膠正被逐漸應(yīng)用于 MEMS、芯片封裝和微加工等領(lǐng)域。目前,直接采用 SU8光刻膠來制備深寬比高的微結(jié)構(gòu)與微零件已經(jīng)成為微加工領(lǐng)域的一項(xiàng)新技術(shù)。在微...2024-03-28 10:07:48
- 用于絲狀真菌抗真菌分析的液滴微流控平臺(tái)(下)8軟件下設(shè)計(jì)(圖5a),并由CAD/Art打印在光掩模上。在硅晶圓上制備SU8-2050負(fù)性光刻膠模具,通過紫外線照射和隨后的顯影(SU-8顯影液)。...2024-05-16 11:26:02
- AZ 5214E 光刻膠AZ光刻膠刻蝕厚度從1μm到150μm以及更厚。AZ光刻膠特點(diǎn):適用于高分辨率工藝(lift-off工藝)適用于正/負(fù)圖形很寬的膜厚范圍AZ光刻膠工藝...2024-03-28 10:29:49
- 光刻膠8?膠正被逐漸應(yīng)用于 MEMS、芯片封裝和微加工等領(lǐng)域。目前,直接采用 SU8光刻膠來制備深寬比高的微結(jié)構(gòu)與微零件已經(jīng)成為微加工領(lǐng)域的一項(xiàng)新技術(shù)。在微...2024-03-28 10:18:53
- 進(jìn)口 Microchem SU-8 光刻膠 2000系列 100-1508 膠正被逐漸應(yīng)用于 MEMS、芯片封裝和微加工等領(lǐng)域。目前,直接采用 SU8光刻膠來制備深寬比高的微結(jié)構(gòu)與微零件已經(jīng)成為微加工領(lǐng)域的一項(xiàng)新技術(shù)。在微...2024-03-28 10:12:32
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