• 涂膠顯影設(shè)備的前景涂膠顯影設(shè)備是芯片制程中必不可少的處理設(shè)備，利用機(jī)械手實(shí)現(xiàn)晶圓在各系統(tǒng)間的傳輸和加工，與光刻機(jī)達(dá)成完美配合從而完成晶圓的光刻膠涂覆、固化、顯影等工藝過(guò)...2022-10-17 08:27:13
• 2024年中國(guó)顯影設(shè)備行業(yè)現(xiàn)狀與發(fā)展趨勢(shì)及前景預(yù)測(cè)質(zhì)量控制。顯影設(shè)備行業(yè)前景預(yù)測(cè)市場(chǎng)規(guī)模持續(xù)增長(zhǎng)：預(yù)計(jì)未來(lái)幾年內(nèi)，中國(guó)涂膠顯影設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模將持續(xù)保持穩(wěn)定增長(zhǎng)。隨著國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的蓬勃發(fā)展和集成電路市...2025-01-20 09:30:25
• 勻膠顯影設(shè)備工藝原理、結(jié)構(gòu)及常見(jiàn)故障分析光刻技術(shù)是半導(dǎo)體工藝制造技術(shù)中最重要的工藝之一。涂膠顯影設(shè)備結(jié)構(gòu)雖比不上光刻機(jī)的復(fù)雜程度，但也是半導(dǎo)體生產(chǎn)中是不可缺少的設(shè)備，其設(shè)備維修也涉及到物理、化學(xué)、機(jī)械、電氣及控制等多方面的內(nèi)容。國(guó)內(nèi)對(duì)涂...2023-12-22 09:53:09
• 光刻機(jī)是光刻工藝的核心設(shè)備清洗設(shè)備、刻蝕設(shè)備、熱處理設(shè)備、PVD設(shè)備、CVD設(shè)備、CMP設(shè)備、涂膠顯影設(shè)備均有突破，部分產(chǎn)品成功實(shí)現(xiàn)了國(guó)產(chǎn)替代。然而對(duì)于光刻設(shè)備我國(guó)仍處于被掐...2022-11-22 08:50:23
• 光刻膠SU-8涂膠工藝解析分類(lèi)。光刻涂膠工藝無(wú)論在晶圓制造前道工藝還是封裝測(cè)試后道工藝，都需要涂膠顯影設(shè)備。半導(dǎo)體設(shè)備按半導(dǎo)體加工過(guò)程主要分為前道工藝（Front-End，即...2022-09-16 08:26:41