• 菲林掩膜版與鉻掩模版的區(qū)別菲林掩膜版和鉻掩模版是兩種不同的掩膜版類型，它們在微電子制造過程中扮演著重要的角色。以下是它們之間的主要區(qū)別：定義與組成菲林掩膜版：菲林掩膜版是一種中低精度的掩膜版...2024-09-13 09:06:50
• PDMS濕法刻蝕與軟刻蝕的區(qū)別幾個步驟：涂覆光敏樹脂：在PDMS表面涂覆一層光敏樹脂。曝光和顯影：通過掩模版對光敏樹脂進行曝光，然后通過顯影液去除未曝光部分的樹脂，形成圖案?？涛g：...2024-09-20 09:42:54
• 掩膜版的技術迭代達14nm；而包括臺灣在內(nèi)的國內(nèi)廠商主要產(chǎn)能還在65nm以上。技術難點光掩模版的技術難點主要在于光刻環(huán)節(jié)中，對制程的要求、對位置精度的控制、對曝光的控...2024-09-10 10:15:48
• 芯片光刻掩膜的保存方法刻蝕出所需圖形而制成的。為了使每塊硅片能同時制作幾十至幾千個管芯或電路，掩模版上相應有幾十至幾千個規(guī)則地重復排列的同一圖形。每個圖形之間具有一定的間隔...2024-09-04 09:28:10
• 半導體掩膜版制造工藝及流程完成整個硅片的圖形復制。掩膜版制造工藝復雜，可以分為前道工藝和后道工藝。掩模版產(chǎn)品的工藝流程主要包括CAM圖檔處理、光阻涂布、激光光刻、顯影、蝕刻、脫...2024-08-19 09:52:00
• 什么是光刻掩膜版保護膜？。軟掩膜保護膜則是由聚合物材料構成，硝化纖維樹脂長期以來在G-線和I-線掩模版的保護中占據(jù)重要地位。當光刻技術進階至DUV波段，硝化纖維樹脂由于在這一...2024-08-16 09:49:36
• 掩膜版清洗方法和注意事項光刻掩模版通常被連續(xù)用作幾乎每個光刻工藝步驟中。在處理晶圓/樣品時，掩膜版通常會變臟。由于光刻過程中我們常用的接觸是光刻機需要掩膜版與光刻膠上表面緊密接觸...2024-02-28 09:39:58
• 光刻工藝介紹額繼續(xù)增長。市場上比較常見的硅片加工工藝都需要20塊以上，甚至更多不同的掩模版，一些復雜的工藝可以有多達30個掩模。通常根據(jù)生產(chǎn)非常細的管線的能力來預...2023-12-21 10:56:32
• 細說接觸式光刻機的使用原理及性能指標.1 gm的特征尺寸，常用的光源分辨率為0.5 gm左右。接觸式光刻機的掩模版包括了要復制到襯底上的所有芯片陣列圖形。在襯底上涂上光刻膠，并被安裝到一...2023-08-04 08:55:03
• 一文了解SU-8光刻膠刻膠可以通過光化學反應，經(jīng)曝光、顯影等光刻工序?qū)⑺枰奈⒓殘D形從光罩（掩模版）轉(zhuǎn)移到待加工基片上。依據(jù)使用場景，這里的待加工基片可以是集成電路材料，...2023-07-25 08:58:21