• WH-SC-01 勻膠機(jī)一、臺(tái)式勻膠機(jī)旋涂?jī)x產(chǎn)品簡(jiǎn)介WH-SC-01勻膠機(jī)適用于半導(dǎo)體工藝，制版及表面涂覆等工藝，可在科研、教育等單位作科研、教學(xué)之用。其總體設(shè)計(jì)由蘇州汶顥微流控技術(shù)...2022-10-10 11:25:17
• 勻膠機(jī)轉(zhuǎn)速對(duì)微流控芯片精度的影響微流控芯片制造過(guò)程中，勻膠是關(guān)鍵步驟之一，而勻膠機(jī)轉(zhuǎn)速會(huì)在多個(gè)方面對(duì)微流控芯片的精度產(chǎn)生影響：對(duì)光刻膠厚度的影響勻膠機(jī)轉(zhuǎn)速與光刻膠厚度成反比關(guān)系。旋轉(zhuǎn)速度影響勻膠時(shí)的離心力，轉(zhuǎn)速越大，角速度越大...2025-03-24 09:52:15
• 微流控勻膠機(jī)的使用范圍和特點(diǎn)什么是微流控勻膠機(jī)微流控勻膠機(jī)在微流控技術(shù)中扮演著至關(guān)重要的角色，特別是在PDMS芯片或SU-8模具的制作過(guò)程中，其應(yīng)用廣泛且效果顯著。以下是對(duì)微流控勻膠機(jī)的詳細(xì)...2025-03-03 10:53:23
• ??勻膠機(jī)?轉(zhuǎn)速與?膠膜厚度的關(guān)系??勻膠機(jī)的轉(zhuǎn)速直接影響膠膜的厚度?在勻膠過(guò)程中，轉(zhuǎn)速越高，?離心力越大，?光刻膠被推向基片邊緣的力也越大，從而導(dǎo)致膠膜變薄。具體來(lái)說(shuō)，轉(zhuǎn)速與離心力之間的...2024-10-08 10:06:25
• 勻膠機(jī)旋涂?jī)x常見問(wèn)題及維護(hù)措施旋涂?jī)x勻膠機(jī)在日常使用過(guò)程是需要進(jìn)行細(xì)致維護(hù)的，當(dāng)然難免也會(huì)遇到一些故障問(wèn)題，下面分享幾個(gè)常見的故障問(wèn)題以及如何維護(hù)，包括基材污染、顆粒污染、化學(xué)污染。1、...2024-05-13 11:21:58
• 勻膠機(jī)旋涂?jī)x的工作原理和應(yīng)用什么是旋涂?jī)x？旋涂?jī)x（spin coater）是一種用于制備薄膜的實(shí)驗(yàn)設(shè)備，常用于半導(dǎo)體、光電子和生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域的研究中。工作原理它的工作原理是將液體...2024-05-07 08:35:22
• 勻膠機(jī)旋涂法制備復(fù)合材料薄膜旋涂法（Spin Coating）是一種常用于制備薄膜的涂覆技術(shù)，特別適用于制備均勻且薄的薄膜，包括復(fù)合材料薄膜。旋涂法適用于許多不同類型的復(fù)合材料，...2024-05-06 15:33:25
• 勻膠機(jī)的兩種不同的旋涂方法：動(dòng)態(tài)點(diǎn)膠和靜態(tài)點(diǎn)膠一般來(lái)說(shuō)，勻膠機(jī)的動(dòng)態(tài)分配是優(yōu)先選擇，因?yàn)樗且环N更受控的過(guò)程，可以提供更好的基板間變化。這是因?yàn)樵陂_始旋轉(zhuǎn)之前溶劑蒸發(fā)的時(shí)間較短，并且斜坡速度和分配時(shí)間不太重...2023-08-28 10:05:25
• 勻膠機(jī)詳細(xì)的操作步驟原理圖材高速旋轉(zhuǎn)，以便通過(guò)離心力散布涂層材料。 用于旋涂的機(jī)器稱為旋涂機(jī)，也叫勻膠機(jī)。在涂覆您的第一個(gè)薄膜之前，一個(gè)成功的結(jié)果需要您注意以下幾點(diǎn)：? 環(huán)境條...2023-08-24 09:45:48
• 勻膠機(jī)旋涂時(shí)出現(xiàn)的常見缺陷在制作微流控芯片時(shí)，勻膠旋涂是最重要的步驟之一，那么在旋涂過(guò)程中會(huì)出現(xiàn)哪些常見的問(wèn)題呢？彗星這些通常發(fā)生在相對(duì)較大的固體顆粒阻礙溶液在旋轉(zhuǎn)晶片上的正常...2023-08-23 09:40:28