勻膠機(jī)旋涂時(shí)出現(xiàn)的常見(jiàn)缺陷
在制作微流控芯片時(shí),勻膠旋涂是最重要的步驟之一,那么在旋涂過(guò)程中會(huì)出現(xiàn)哪些常見(jiàn)的問(wèn)題呢?
彗星
這些通常發(fā)生在相對(duì)較大的固體顆粒阻礙溶液在旋轉(zhuǎn)晶片上的正常流動(dòng)模式時(shí)。除了在“旋轉(zhuǎn)”期間,流動(dòng)通常是平滑的和徑向的(徑向速度梯度由適用的力平衡和粘度限制控制)。彗星的存在可以通過(guò)在更清潔的環(huán)境中工作和過(guò)濾涂層來(lái)減少或消除解決方案作為分配過(guò)程的一部分。
條紋
條紋是涂層薄膜中厚度變化的徑向取向線。通常它們是非常平滑地變化的厚度變化,其間距或周期性在 50-200 微米左右的范圍內(nèi)。它們的方向?qū)?yīng)于主要流體流動(dòng)的方向。它們的出現(xiàn)被認(rèn)為是由于蒸發(fā)驅(qū)動(dòng)的表面張力效應(yīng)而產(chǎn)生的。輕質(zhì)溶劑的早期蒸發(fā)會(huì)導(dǎo)致表面層中水和/或其他不易揮發(fā)的物質(zhì)富集。如果該層的表面張力大于起始溶液(并且仍然存在于更深的水平),則存在不穩(wěn)定性,其中較高的表面張力實(shí)際上以規(guī)則的間隔將材料吸入,而兩者之間的空間更能夠蒸發(fā),和表面浮雕發(fā)展。這主要是由于 Marangoni 效應(yīng),它控制著葡萄酒在酒杯側(cè)面的排水模式中結(jié)構(gòu)的發(fā)展:乙醇首先蒸發(fā),留下一個(gè)乙醇耗盡的酒層,該層聚集成小溪并沿著玻璃壁排出。
蒸發(fā)驅(qū)動(dòng)的表面張力效應(yīng)可以通過(guò)以下方式產(chǎn)生條紋:
蒸發(fā)過(guò)程使頂層具有不同的成分,因此具有不同的表面張力。然后,頂面可能會(huì)變得不穩(wěn)定,不受“長(zhǎng)波長(zhǎng)”擾動(dòng)的影響,而這些擾動(dòng)又會(huì)變得不穩(wěn)定??刂剖裁词欠€(wěn)定和什么是不穩(wěn)定的確切條件仍然不為人知。我們的初步模型是,您希望蒸發(fā)過(guò)程將局部表面張力驅(qū)動(dòng)到較低的值,這將趨于穩(wěn)定系統(tǒng)。目前正在對(duì)許多溶膠-凝膠和聚合物涂層系統(tǒng)進(jìn)行測(cè)試。
卡盤(pán)標(biāo)記
這些圖案可以通過(guò)晶圓頂部的溶液和晶圓背面的金屬真空卡盤(pán)之間的熱“交流”產(chǎn)生。因此,基板材料的熱導(dǎo)率和熱驅(qū)動(dòng)力(主要是蒸發(fā)冷卻,但也可能是由于溶液與基板和卡盤(pán)之間的溫度差異)非常重要。右圖在玻璃基板上具有單層溶膠-凝膠衍生涂層。硅晶片由于其較高的導(dǎo)熱性,與玻璃或塑料相比,通常具有較小的厚度差異。
環(huán)境敏感性
在周?chē)h(huán)境中制作涂層時(shí),周?chē)h(huán)境可能會(huì)對(duì)涂層質(zhì)量產(chǎn)生影響。一個(gè)關(guān)鍵變量是周?chē)諝獾臐穸?。?duì)于許多溶液而言,水在溶液本身的化學(xué)性質(zhì)中起著重要作用,因此當(dāng)環(huán)境中存在不同量的水時(shí),可能會(huì)導(dǎo)致不同的涂層質(zhì)量。這可以表現(xiàn)為涂層粗糙、涂層在進(jìn)一步干燥時(shí)出現(xiàn)微裂紋、涂層中形成夸張的條紋等。顯然,對(duì)旋涂機(jī)周?chē)h(huán)境的密切控制其重要性不言而喻。
晶圓邊緣效應(yīng)
基板的邊緣始終是需要關(guān)注的區(qū)域。如果可以在邊緣保持更好的均勻性,則可以將更多區(qū)域用于器件制造。邊緣是有幾個(gè)原因的問(wèn)題。首先,表面張力效應(yīng)使徑向向外流動(dòng)的溶液難以從晶片上分離。因此,一個(gè)小的液體“珠”可以圍繞整個(gè)周邊保持附著,并在該邊緣區(qū)域產(chǎn)生更厚的涂層。此外,如果基材不是完全圓形,特別是如果它們是正方形或矩形,那么突出部分(角落)上方的氣流將受到干擾。雖然流動(dòng)可能仍然是層流,但它會(huì)有不同的流動(dòng)歷史,通常會(huì)導(dǎo)致這些角落區(qū)域的涂層厚度不均勻。
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