• SU-8光刻膠模具使用的模板一定是環(huán)氧樹脂SU-8模具。汶顥股份利用光刻技術在涂覆SU-8光刻膠的硅片上制備深寬比高的微結構與微零件，可制作厚度在10-500μ，具有一...2025-04-03 21:50:11
• Microchem SU-8光刻膠 2000系列SU 8光刻膠系列產品簡介新型的化學增幅型負像 SU- 8?膠是一種負性、環(huán)氧樹脂型、近紫外線光刻膠，克服了普通光刻膠采用 UV光刻導致的深寬比不足的問題，十...2024-03-28 10:07:48
• 晶圓表面光刻膠的涂覆與刮邊工藝的研究制造技術也得到了快速發(fā)展。其中，光刻技術在晶圓制造過程中的地位尤為重要。光刻膠是光刻工藝中必不可少的材料，其質量直接影響到晶圓生產的效率和質量。本文將...2025-01-03 09:43:30
• 微流控硅片在顯影后上有大量的光刻膠殘留是什么原因呢？微流控顯影后硅片上有大量的光刻膠殘留可能是由于多種因素造成的。以下是可能導致這種情況的一些原因和解決方法：可能的原因顯影液不足：顯影液的量不足可能導致顯影不完全，從而留下光刻膠...2024-10-31 08:52:04
• su8 光刻膠使用方法及注意事項使用方法基底準備在使用SU-8光刻膠之前，基板應保持清潔和干燥.清潔基板的方法包括使用硫酸和過氧化氫的混合液（piranha etch）進行濕法清洗，隨后用去離子水沖洗.可選地，也...2024-09-27 09:37:13
• 掩膜版與光刻膠的功能和作用?掩膜版與光刻膠在芯片制造過程中扮演著不可或缺的角色，它們的功能和作用各有側重，但共同促進了芯片的精確制造。?掩膜版?，也稱為光罩、光掩膜或光刻掩膜版，是微電子...2024-09-06 09:57:07
• 如何成功的烘烤微流控SU-8光刻膠？在微流控PDMS芯片加工的過程中，需要使用烘膠臺或者烤膠機對SU-8光刻膠或PDMS聚合物進行烘烤。SU-8光刻膠的烘烤通常需要進行2-3次。本文簡要介紹SU-8光刻膠烘烤的注意事項。微流控SU-8光刻膠烘烤：軟烘、后...2024-08-27 09:13:59
• 如何成功的旋涂微流控SU-8光刻膠？微流控PDMS芯片或SU-8模具制作的過程中，需要把PDMS膠或SU-8光刻膠根據(jù)所需要的厚度來選擇合適的旋涂轉速并且使PDMS膠或SU-8膠涂布均勻...2024-08-26 09:48:48
• 如何成功進行微流控SU-8光刻膠的紫外曝光？為了成功紫外曝光并且根據(jù)所需要的分辨率，光掩模必須盡可能的靠近SU-8光刻膠放置，不要有任何干擾。如要這樣做，可檢查如下幾件事。首先，光掩模和晶圓之間的灰塵或任何其他元素的存在都會導致不完美的接觸。在曝光的過程中，通過清...2024-08-23 08:57:36
• 光刻膠再吸水某些光刻膠的光化學作用要求在曝光過程中光刻膠膜中需要有水作為不可缺少的前驅體，但在前烘后立即進行曝光則不能有足夠的時間吸收水分。本文主要介紹其原理、補水的...2024-07-29 10:02:11