• 光刻工藝介紹及對(duì)掩膜版的質(zhì)量要求光刻工藝的基本要求包括圖形完整、尺寸準(zhǔn)確、套準(zhǔn)對(duì)準(zhǔn)且套準(zhǔn)精度高、表面干凈，并具有一定的工藝寬容度。?光刻是一種圖形復(fù)印和化學(xué)腐蝕相結(jié)合的精密表面加工技...2024-09-09 10:06:02
• 微流控芯片一般光刻工藝過程把設(shè)計(jì)掩膜模圖形轉(zhuǎn)移到晶圓上需要經(jīng)過一整套復(fù)雜的涂膠、曝光、顯影、刻蝕等工藝過程，這一過程大體可以分為以下11個(gè)步驟，如下圖1 所示：?圖1 一般光刻...2024-07-04 09:13:40
• 光刻工藝介紹達(dá)30個(gè)掩模。通常根據(jù)生產(chǎn)非常細(xì)的管線的能力來預(yù)測(cè)工藝性能。但是，評(píng)估光刻工藝的性能非常困難。制造商要求嚴(yán)格控制數(shù)千個(gè)硅芯片和硅芯片中超過10億個(gè)晶...2023-12-21 10:56:32
• 光刻機(jī)是光刻工藝的核心設(shè)備循環(huán)都是通過程序控制，自動(dòng)光刻機(jī)主要是滿足工廠對(duì)于處理量的需要。?　　光刻工藝定義了半導(dǎo)體器件的尺寸，是IC制造中的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。作為芯片生產(chǎn)流程中最復(fù)...2022-11-22 08:50:23
• 微流控芯片的加工技術(shù)——光刻工藝光刻工藝?光刻工藝是用光刻膠、掩模和紫外光進(jìn)行微制造 ，工藝如下 ：?①仔細(xì)地將基片洗凈;?②在干凈的基片表面鍍上一層阻擋層 ，例如鉻、二氧化硅、氮化...2022-09-22 08:49:07
• 光刻工藝的評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn)是由工藝集成（process integrated，PI）部門負(fù)責(zé)的。光刻工藝的輸出就是光刻膠上的圖形。一般集成部門對(duì)光刻膠上的圖形有嚴(yán)格要求。如圖...2018-07-31 18:10:09
• 光刻工藝的成本一個(gè)在研的新光刻工藝最終是否被生產(chǎn)線采納用于量產(chǎn)，不僅取決于其技術(shù)指標(biāo)是否達(dá)到要求，更重要的是它能否為芯片生產(chǎn)帶來足夠的經(jīng)濟(jì)效益。芯片造價(jià)的30%~40%是花費(fèi)...2018-07-25 08:40:00
• 現(xiàn)代光刻工藝研發(fā)各部分的職責(zé)和協(xié)作使用的支持。這種技術(shù)支持超過了傳統(tǒng)的使用培訓(xùn)、故障維修、而是深入?yún)⑴c到光刻工藝研發(fā)中，為工藝中的難點(diǎn)提供解決方案。????光刻材料也已經(jīng)不再局限于光...2018-07-12 09:55:41
• SU-8光刻膠產(chǎn)品性能及光刻工藝介紹基底相比，金屬襯底上的SU-8工藝更有利于微細(xì)電鑄工藝。膠膜結(jié)構(gòu)質(zhì)量受光刻工藝，如基底前處理、勻膠、前后烘、曝光、顯影等環(huán)節(jié)影響，其中顯影操作是光刻...2018-03-09 08:47:59
• 光刻工藝所需藥品及設(shè)備與操作步驟醇、蒸餾水、丙酮。實(shí)驗(yàn)儀器：勻膠機(jī)、烘膠臺(tái)、光刻機(jī)、真空泵、氣泵。二.光刻工藝實(shí)驗(yàn)步驟?1.清潔硅片：去離子水和有機(jī)溶液沖洗，邊旋轉(zhuǎn)邊沖洗，以去除污...2017-12-21 08:48:35