從最早被用于電路制造，光刻技術(shù)的發(fā)展已經(jīng)走過了半個多世紀。在過去的半個多世紀中，除了光刻設備、材料和工藝的不斷發(fā)展以外，光刻工程技術(shù)人員工作的職責和方式也在不斷演化。首先是光刻機越來越復雜和昂貴，僅靠Fab的光刻工程師，已經(jīng)不能完全運行和維護光刻設備并充分發(fā)揮其產(chǎn)能，F(xiàn)ab離不開光刻設備供應商對光刻機使用的支持。這種技術(shù)支持超過了傳統(tǒng)的使用培訓、故障維修、而是深入?yún)⑴c到光刻工藝研發(fā)中，為工藝中的難點提供解決方案。

    光刻材料也已經(jīng)不再局限于光刻膠，而是包括抗反射層、含Si的抗反射層、旋涂的有機碳等眾多新型材料。這些新型材料在使用過程中很容易出現(xiàn)各種問題，例如，旋涂后產(chǎn)生較多的顆粒和缺陷，何種過濾器最有效。這些問題的解決都必須有材料供應商的參與。在測量方面，電子顯微鏡一直被用于光刻膠上關鍵線寬的測量。高能量的電子束會損傷光刻膠，使光刻膠線條收縮，一般會導致4~5nm的測量偏差。這一偏差在32nm技術(shù)節(jié)點以下是不能接受的。如何改進測量程序、修正這種測量偏差也不是晶圓廠計量工程師（metrology engineer）獨自能完成的，需要測量設備生產(chǎn)商專業(yè)技術(shù)人員的參與。

晶圓廠光刻內(nèi)部的分工以及各單位之間的交叉和牽制

    Fab的光刻部門分為研發(fā)（technologydevelopment,TD）和生產(chǎn)（manufacturing）。這里側(cè)重討論光刻研發(fā)部門。Fab光刻研發(fā)部門內(nèi)部一般分為若干個工作小組，這是按工作任務來劃分的。下表是晶圓廠光刻研發(fā)部門內(nèi)部的組織機構(gòu)。對于光刻生產(chǎn)部門，其主要精力是維持生產(chǎn)，其組織結(jié)構(gòu)和下表略有不同。

光刻是一個工藝單元，其工作的重心是支持工藝集成，為工藝集成提供圖形解決方案（patterning solutions），爭取及早實現(xiàn)器件的產(chǎn)額（Yield）。根據(jù)支持工藝集成的直接和間接程度，光刻部門內(nèi)的工作分為一、二、三線，第一線的部門以工藝組為主，也包括掩模管理組和測量組。工藝組中的工程師就是所謂的“l(fā)ayer owner”，即每人負責幾個光刻層，一般是工藝技術(shù)類似的幾個光刻層?！發(fā)ayer owner”協(xié)調(diào)內(nèi)部資源、負責光刻工藝的設置、支持工藝集成。掩模管理和工藝集成的交集也很多，因為一個工藝流程中需要多少層掩模版、每一層掩模什么時候需要都是由工藝集成工程師掌握的。測量組也需要時常直接支持工藝集成，因為在工藝流程中測量是作為獨立的步驟存在的。二線部門的主要任務是為一線部門提供設備、材料和數(shù)據(jù)系統(tǒng)使用方面的支持。

在日常工作中，工藝工程師通?？梢越鉀Q大多數(shù)制程中出現(xiàn)的問題。存在一小部分問題需要比較深入的設備、材料、數(shù)據(jù)系統(tǒng)的支持，這時二線的工程師就必須參與，甚至通過二線工程師把設備或材料供應商的專業(yè)技術(shù)人員引入討論，三線是先導研發(fā)或者叫預研，為下一個技術(shù)節(jié)點尋找光刻的技術(shù)方向。

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