在微流控芯片中如何實(shí)現(xiàn)可控PH梯度？

這里主要介紹以軟光刻(soft-lithography)為主要手段的微加工技術(shù)制備PH值梯度微流芯片的方法. 此種PH梯度芯片具有容易加工、可根據(jù)需要快速得到不同范圍的PH值梯度、精度可控制、IEF與分離結(jié)合為一體、IEF所需電壓低、PH值梯度不隨時(shí)間改變等優(yōu)點(diǎn). PH值梯度微流芯片的制作過程如下:

將圖形用3600dpi的打印機(jī)打印輸出到透明膠片上, 作為掩膜版使用.

使用AZ50T 光刻膠, 在Si片上以光刻的方法得到軟光刻的模板. 實(shí)驗(yàn)中使用的模板的混合區(qū)寬度為40 μm, PH值梯度區(qū)的寬度為250和500 μm兩種.

將5 mm厚的聚二甲基硅氧烷PDMS(polydimethylsiloxane, GE RTV615)倒在Si模板上, 待無氣泡后放入80℃的烘箱, 烘烤25 min.

將固化的PDMS從Si模板上揭開, 在圓點(diǎn)處打孔以用于進(jìn)樣和分離出口.

將PDMS與蒸鍍了電極的玻璃片用鍵合的方法粘合在一起. 實(shí)驗(yàn)中PH值的測量采用InoLab Level 3 PH計(jì), 注射泵采用WH-SSP-08型.