等離子清洗機的清洗類別

　　最基本的等離子清洗設(shè)備由四大部分組成，即激發(fā)電源、真空泵、真空腔、反應氣體源。激發(fā)電源是提供氣體放電能量來源的電源，可以采用不同的頻率；真空泵的主要作用是抽走副產(chǎn)品，包括旋片式機械泵或增壓泵；真空腔內(nèi)帶有放電電離的電極，將反應氣體變成等離子體；反應氣體源一般采用的氣體有氬、氧、氫、氮、四氯化碳等單一氣體，或兩種氣體混合使用。有許多因素支配著等離子體清洗的效用，這些因素包含化學性質(zhì)的選擇、制程參數(shù)、功率、時間、零件放置及電極構(gòu)造。不同的清洗用途所需要的設(shè)備結(jié)構(gòu)、電極接法、反應氣體種類是不同的，其工藝原理也有很大區(qū)別，有的是物理反應，有的是化學反應，有的是物理化學兩種作用都產(chǎn)生，反應的有效性取決于等離子體氣源、等離子系統(tǒng)的組合及等離子工藝操作參數(shù)。

汶顥手持式等離子清洗機

1 化學反應為主的清洗

　　表面反應以化學反應為主的等離子體清洗，習慣上稱等離子清洗PE，許多氣體的等離子態(tài)可產(chǎn)生高活性的粒子。從化學反應式可知，典型的PE工藝是氧氣或氫氣等離子體工藝，用氧等離子通過化學反應，能夠使非揮發(fā)性有機物變成易揮發(fā)性的CO2和水汽，去除沾污物，使表面清潔；用氫的等離子可通過化學反應，去除金屬表面氧化層，清潔金屬表面。反應氣體電離產(chǎn)生的高活性反應粒子，在一定條件下與被清洗物體表面發(fā)生化學反應，反應生成物是易揮發(fā)性物，可以被抽走，而針對被清除物的化學成分，選擇合適的反應氣體組分是極為重要的。PE的特點是表面改性，清洗速度較快，選擇性好，對有機沾污污染比較有效。其不足是可能產(chǎn)生氧化物。

2 物理反應為主的清洗

　　表面反應以物理反應為主的等離子體清洗，也稱為濺射腐蝕SPE或離子銑IM。表面物理濺射是指等離子體中的正離子在電場獲得能量去轟擊表面，撞擊移去表面分子片段和原子，使污染物從表面去除，并能夠使表面在分子級范圍改變微觀形態(tài)粗糙化，從而改善表面的粘結(jié)性能。氬氣本身是惰性氣體，等離子態(tài)的氬氣并不和表面發(fā)生反應，工藝是氬等離子通過物理濺射使表面清潔。等離子體物理清洗不會產(chǎn)生氧化副作用，保持被清洗物的化學純潔性，腐蝕作用各向異性，缺點是對表面產(chǎn)生很大的損害和熱效應，選擇性差，速度較低。

3 反應離子腐蝕

　　化學清洗、物理清洗各有利弊，在反應離子腐蝕中把這兩種機理結(jié)合起來，物理反應和化學反應都同時起重要作用，相互促進，其效果既有較好的選擇性、清洗率、均勻性，又有較好的方向性。

4 順流等離子體清洗

　　順流等離子體也叫源室分腔式等離子體DPE，產(chǎn)生等離子體的源位于等離子發(fā)生腔，待清洗的工件位于工藝腔，把氣相反應粒子、原子團、光子等引入工藝腔，對工件進行清洗，把離子、電子基本濾除掉。2.45GHz順流等離子體類型是用于封裝類等離子清洗的主要形式，適于清洗有機物。

5 激發(fā)頻率分類

　　常見的等離子體電源激發(fā)頻率有三種：激發(fā)頻率40kHz的等離子體為超聲等離子，發(fā)生的反應為物理反應，清洗系統(tǒng)離子密度較低；13.56MHz的等離子體為射頻等離子體，等離子體發(fā)生的反應既有物理反應又有化學反應，離子密度和能量較高；2.45GHz的等離子體為微波等離子體，離子濃度，反應為化學反應。實際上，半導體生產(chǎn)中大多采用射頻或微波等離子體清洗，而半導體后部工序用戶用的等離子體清洗設(shè)備大多數(shù)采用由鋁或不銹鋼制造的方形、長方形金屬箱體，電極為內(nèi)置平行板狀結(jié)構(gòu)。

　　各等離子體清洗設(shè)備廠家針對不同的用戶需求，設(shè)計制造了許多種不同結(jié)構(gòu)類型、不同電源頻率的清洗設(shè)備，各有所長，也就各有所短。選用等離子清洗設(shè)備前要搞清楚待清洗工件特征，要清除掉的沾污物是什么，待清洗工件在清洗過程中應避免什么，是高溫、晶格損傷、靜電損傷還是二次污染等，通過試驗結(jié)果確認、選購滿足不同工件對等離子清洗不同要求的設(shè)備。

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