• 2024年中國顯影設(shè)備行業(yè)現(xiàn)狀與發(fā)展趨勢及前景預(yù)測顯影設(shè)備定義顯影設(shè)備，在廣義上，是指將曬制好的印版通過特定的程序，將顯影、沖洗、涂膠、烘干等工序一次性部分或全部完成的印刷處理設(shè)備。這類設(shè)備通常由傳動...2025-01-20 09:30:25
• 微流控硅片在顯影后上有大量的光刻膠殘留是什么原因呢？微流控顯影后硅片上有大量的光刻膠殘留可能是由于多種因素造成的。以下是可能導(dǎo)致這種情況的一些原因和解決方法：可能的原因顯影液不足：顯影液的量不足可能導(dǎo)致顯影...2024-10-31 08:52:04
• 顯影液在微流控行業(yè)的應(yīng)用顯影液在微流控行業(yè)中扮演著重要角色，特別是在微流控芯片的加工過程中。以下是顯影液在微流控行業(yè)應(yīng)用的一些關(guān)鍵點：微流控芯片加工中的顯影液在微流控芯片的加...2024-10-25 09:47:17
• AZ顯影液的使用方法和注意事項使用方法配制顯影液：在配制顯影液時，需要按照規(guī)定的比例將各個成分混合在一起，以確保其性能穩(wěn)定。清理線路板：在使用顯影液之前，應(yīng)將線路板表面的污垢和雜質(zhì)清理干凈，...2024-09-26 08:47:20
• 光刻膠顯影顯影是在曝光后的重要步驟，利用曝光區(qū)域在化學(xué)性質(zhì)上與未暴光的區(qū)域不同，在特定的化學(xué)溶液中選擇性的保留曝光區(qū)域（負膠）或者未曝光區(qū)域（正膠）的過程。從而...2024-07-02 09:36:33
• 光刻膠烘烤過程及對顯影的影響DNQ基光刻膠在曝光過程中形成并產(chǎn)生氣泡缺陷；提高光刻膠與襯底的粘附性；顯影時減小正膠的的暗腐蝕效應(yīng)；多層膠工藝或者多次旋涂工藝下，防止溶劑溶解下層...2024-06-21 09:52:46
• 晶圓顯影方式之浸泡式顯影和噴淋式顯影晶圓顯影過程是光刻工序中必不可少的步驟，顯影過程已經(jīng)經(jīng)歷了幾十年的創(chuàng)新和進步。那么常見的顯影方式有幾種？顯影液的種類有哪些？顯影的機理是什么？顯影主要的...2024-02-19 10:42:43
• 勻膠顯影設(shè)備工藝原理、結(jié)構(gòu)及常見故障分析光刻技術(shù)是半導(dǎo)體工藝制造技術(shù)中最重要的工藝之一。涂膠顯影設(shè)備結(jié)構(gòu)雖比不上光刻機的復(fù)雜程度，但也是半導(dǎo)體生產(chǎn)中是不可缺少的設(shè)備，其設(shè)備維修也涉及到物理、化學(xué)、機械、電氣及控制等多方面的內(nèi)容。國內(nèi)對涂膠顯...2023-12-22 09:53:09
• SU-8顯影液opyl acetate < 0.5% 2-甲基丙醇乙酸酯 < 0.5%顯影原理：SU-8膠的顯影原理是在顯影液中溶解掉未曝光部分的光刻膠。當基片放...2023-06-29 11:57:03
• AZ 400K 顯影液COMPOSITION/INFORMATION ON INGREDIENTSCHEMICAL NAME & ? ?WEIGHT ? HAZARDOUS...2023-02-16 17:25:23