• 掩膜板的制造和管理掩膜板的基材一般為熔融石英（quartz），這種材料對深紫外光（DUV，KrF-248nm，ArF-193nm）具有高的光學(xué)透射，而且具有非常低的溫度...2024-08-01 10:02:30
• 微流控中的烘膠技術(shù)高于其曝光后烘的溫度的情況下，如果負(fù)膠顯影后的結(jié)構(gòu)在后烘前受到泛曝光（無掩膜板曝光），交聯(lián)程度會進(jìn)一步增加，從而提高側(cè)壁的濕化學(xué)穩(wěn)定性，尤其是厚膠應(yīng)用...2025-01-07 10:20:54
• 基于玻璃基底的細(xì)胞培養(yǎng)芯片研究（上）1.2微流控芯片的加工以 ITO玻璃為基質(zhì)材料的細(xì)胞培養(yǎng)芯片制作主要包括掩膜板制作、ITO玻璃清洗,曝光、刻蝕、鍵合等步驟,見圖1。?圖1 玻璃芯片的...2024-12-05 10:22:20
• 微流控芯片3大制作技術(shù)，然后進(jìn)行后續(xù)的微電鑄和微復(fù)制工藝。它不需要同步輻射X光光刻和特制的X光掩膜板，有利于實現(xiàn)微機(jī)械器件的大批量生產(chǎn)。根據(jù)紫外光深層光刻的工藝路線的不同，...2024-08-29 09:41:06
• 半導(dǎo)體掩膜版制造工藝及流程作微細(xì)光掩膜圖形的理想感光性空白板，被刻蝕上掩膜圖形之后就成為光掩膜版。掩膜板可分為光掩膜版和投影掩膜版。光掩膜版包含了整個硅片的芯片圖形特征，進(jìn)行1...2024-08-19 09:52:00
• 光刻膠的硬烘烤技術(shù)高于其曝光后烘的溫度的情況下。如果負(fù)膠顯影后的結(jié)構(gòu)在后烘前受到泛曝光（無掩膜板曝光)，交聯(lián)程度的增加。因此，可以提高側(cè)壁的濕化學(xué)穩(wěn)定性特別是厚膠應(yīng)用中...2024-07-01 11:48:28
• 勻膠“邊膠”的產(chǎn)生及改善措施觸式光刻的情況下是有問題的：由于邊緣光刻膠的溶劑殘留量高，即使在前烘后，掩膜板也會粘附在光刻膠膜上，會污染掩膜板。在曝光過程中，邊珠還會在光刻膠膜和掩...2024-02-22 09:54:25
• 從層析熒光到微流控生物芯片——現(xiàn)場快速檢驗（POCT）沒有產(chǎn)品出現(xiàn)。?理邦的m16磁敏免疫分析儀采用了通過多層納米膜淀積、多層掩膜板光刻等大規(guī)模集成電路工藝制造的生物芯片技術(shù)。圖2是其示意圖，其中每一個彩...2023-08-15 08:47:55
• 微流控芯片的制作工藝及注意事項積設(shè)備等。接下來，通過光刻技術(shù)將芯片的圖案轉(zhuǎn)移到光刻膠上。該步驟需要使用掩膜板，將設(shè)計好的芯片結(jié)構(gòu)投影到光刻膠表面，并進(jìn)行曝光和顯影處理。然后，使用薄...2023-07-20 09:59:05
• 微流控芯片的制作技術(shù)，然后進(jìn)行后續(xù)的微電鑄和微復(fù)制工藝。它不需要同步輻射X光光刻和特制的X光掩膜板，有利于實現(xiàn)微機(jī)械器件的大批量生產(chǎn)。根據(jù)紫外光深層光刻的工藝路線的不同，...2021-10-14 15:29:00