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- 新型多觸發(fā)極紫外光刻膠材料近年來,極紫外(EUV)光刻一直被認(rèn)為是下一個(gè)可行的光刻方案。然而,在光學(xué)系統(tǒng)、掩膜版、光刻膠材料等方面的技術(shù)難題阻礙了這一技術(shù)的應(yīng)用。例如,EUV光...2017-08-17 11:54:14
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