• SU-8光刻膠模具會用到模具，尤其是在PDMS芯片加工的過程中。PDMS芯片加工通常采用軟光刻技術來制作。為了執(zhí)行PDMS軟光刻技術的加工過程，通常需要用到模板，最常...2025-04-09 04:09:13
• 光刻加工光刻技術圖形轉移工藝光刻工藝（Photoetching or Lithography）是一種圖像復印技術，利用光刻膠感光后特性發(fā)生改變的原理，將光刻掩...2025-04-09 04:09:13
• Microchem SU-8光刻膠 2000系列SU 8光刻膠系列產(chǎn)品簡介新型的化學增幅型負像 SU- 8?膠是一種負性、環(huán)氧樹脂型、近紫外線光刻膠，克服了普通光刻膠采用 UV光刻導致的深寬比不足的問題，...2024-03-28 10:07:48
• 鉻板掩膜和光刻掩膜的區(qū)別掩膜版作為微納加工技術中光刻工藝所使用的圖形母版，在IC、平版顯示器、印刷電路版、微機電系統(tǒng)等領域具有廣泛的應用。隨著信息技術和智能制造的快速發(fā)展，特別是智能手機、平板電腦...2025-02-19 09:29:54
• 正性光刻對掩膜版有哪些要求正性光刻對掩膜版的要求主要包括以下幾個方面：基板材料：掩膜版的基板材料需要具有良好的透光性、穩(wěn)定性以及表面平整度。石英是常用的基板材料，因為它具有較低的...2025-02-17 09:46:14
• 晶圓表面光刻膠的涂覆與刮邊工藝的研究隨著半導體器件的應用范圍越來越廣，晶圓制造技術也得到了快速發(fā)展。其中，光刻技術在晶圓制造過程中的地位尤為重要。光刻膠是光刻工藝中必不可少的材料，其質量直接影響到晶圓生產(chǎn)的效率和質量。本文將圍繞著晶圓表面光刻膠的涂覆與刮...2025-01-03 09:43:30
• 正性光刻對掩膜版的要求在正性光刻過程中，掩膜版（Photomask）作為圖形轉移的關鍵工具，其性能直接影響到最終圖形的精確度和質量。以下是正性光刻對掩膜版的主要要求：圖案準確性...2024-12-20 09:48:27
• 微流控硅片在顯影后上有大量的光刻膠殘留是什么原因呢？微流控顯影后硅片上有大量的光刻膠殘留可能是由于多種因素造成的。以下是可能導致這種情況的一些原因和解決方法：可能的原因顯影液不足：顯影液的量不足可能導致顯影不完全，從而留下光刻...2024-10-31 08:52:04
• 光刻掩膜和光刻模具的關系光刻掩膜（也稱為光罩）和模具在微納加工技術中都起著重要的作用，但它們的功能和應用有所不同。光刻掩膜版光刻掩膜版是微納加工技術中常用的光刻工藝所使用的圖...2024-10-14 09:14:32
• 鉻版掩膜與光刻掩膜的區(qū)別，用于精確地轉移圖形到待加工的材料上，如集成電路（IC）芯片。鉻版掩膜和光刻掩膜都是掩膜版的一種，但它們之間存在一些區(qū)別，主要體現(xiàn)在材料、用途和工藝...2024-10-12 09:25:11