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Mirochem SU-8光刻膠 3000系列
- 型號SU-8 3010
進(jìn)口SU-8光刻膠系列,克服了普通光刻膠采用UV光刻深寬比不足的問題,在近紫外光(365nm-400nm)范圍內(nèi)光吸收度很低,且整個(gè)光刻膠層所獲得的曝光量均勻一致,可得到具有垂直側(cè)壁和高深寬比的厚膜圖形
新型的化學(xué)增幅型負(fù)像 SU- 8 膠是一種負(fù)性、環(huán)氧樹脂型、近紫外線光刻膠,克服了普通光刻膠采用 UV光刻導(dǎo)致的深寬比不足的問題,十分適合于制備高深寬比微結(jié)構(gòu)。SU- 8 光刻膠在近紫外光(365nm- 400nm)范圍內(nèi)光吸收度很低,且整個(gè)光刻膠層所獲得的曝光量均勻一致,可得到具有垂直側(cè)壁和高深寬比的厚膜圖形;它還具有良好的力學(xué)性能、抗化學(xué)腐蝕性和熱穩(wěn)定性。SU- 8 在受到紫外輻射后發(fā)生交聯(lián),是一種化學(xué)擴(kuò)大負(fù)性膠,可以形成臺階等結(jié)構(gòu)復(fù)雜的圖形;且 SU- 8 膠不導(dǎo)電,在電鍍時(shí)可以直接作為絕緣體使用。由于具有較多優(yōu)點(diǎn),SU- 8 膠正被逐漸應(yīng)用于 MEMS、芯片封裝和微加工等領(lǐng)域。目前,直接采用 SU- 8 光刻膠來制備深寬比高的微結(jié)構(gòu)與微零件已經(jīng)成為微加工領(lǐng)域的一項(xiàng)新技術(shù)。
Microchem SU 8光刻膠光刻前清洗工藝
為了獲得更好的光刻效果,在進(jìn)行光刻膠旋涂之前,需要對基材進(jìn)行清洗。常用的清洗方法是利用濃硫酸及雙氧水的混合溶液浸泡,隨后用去離子水清洗并用氮?dú)獯蹈?。除此之外還可以利用反應(yīng)離子刻蝕或等離子表面清洗儀清洗。
Microchem SU 8光刻膠光刻工藝
將 SU- 8 光刻膠組分旋涂在基材上,旋涂厚度幾至幾百微米。涂覆晶片經(jīng)過前烘并冷卻至室溫。在烘干過程中,優(yōu)先選擇加熱均勻且溫度控制精確的加熱板;不能使用鼓風(fēng)干燥箱,防止因?yàn)楣饪棠z表面優(yōu)先固化從而阻止內(nèi)層光刻膠溶劑的揮發(fā)。冷卻后,將負(fù)光掩模與涂覆晶片接觸并在汞燈的紫外輻射劑量10-250mJ/㎝?條件下進(jìn)行曝光。曝光結(jié)束后,選擇合適的烘烤溫度及時(shí)間。將晶片在顯影液中浸漬顯影,隨后用氮?dú)獯蹈伞?/span>
SU-8光刻膠的優(yōu)點(diǎn)
1、SU-8光刻膠在近紫外光(365nm- 400nm)范圍內(nèi)光吸收度很低,且整個(gè)光刻膠層所獲得的曝光量均勻一致,可得到具有垂直側(cè)壁和高深寬比的厚膜圖形;
2、SU-8光刻膠具有良好的力學(xué)性能、抗化學(xué)腐蝕性和熱穩(wěn)定性;
3、SU-8在受到紫外輻射后發(fā)生交聯(lián),是一種化學(xué)擴(kuò)大負(fù)性膠,可以形成臺階等結(jié)構(gòu)復(fù)雜的圖形;
4、SU-8膠不導(dǎo)電,在電鍍時(shí)可以直接作為絕緣體使用。
由于具有較多優(yōu)點(diǎn),SU-8 膠正被逐漸應(yīng)用于 MEMS、芯片封裝和微加工等領(lǐng)域。目前,直接采用 SU8光刻膠來制備深寬比高的微結(jié)構(gòu)與微零件已經(jīng)成為微加工領(lǐng)域的一項(xiàng)新技術(shù)。在微流控芯片加工中,SU-8主要用于快速模塑法加工PDMS微流控芯片。
光刻膠型號及參數(shù)
光刻膠名稱 | 型號 | 勻膠厚度 | 規(guī)格 |
MicroChem SU-8 負(fù)膠 | SU-8 2000.5 | 0.5-0.8μm | 100ml;500ml;1L;1加侖 |
MicroChem SU-8 負(fù)膠 | SU-8 2002 | 2-2.9μm | 100ml;250ml;500ml;1L |
MicroChem SU-8 負(fù)膠 | SU-8 2005 | 5-8μm | 100ml;250ml;500ml;1L |
MicroChem SU-8 負(fù)膠 | SU-8 2007 | 7-13μm | 100ml;250ml;500ml;1L |
MicroChem SU-8 負(fù)膠 | SU-8 2010 | 10-20μm | 100ml;250ml;500ml;1L |
MicroChem SU-8 負(fù)膠 | SU-8 2015 | 13-38μm | 100ml;250ml;500ml;1L |
MicroChem SU-8 負(fù)膠 | SU-8 2025 | 20-80μm | 100ml;250ml;500ml;1L |
MicroChem SU-8 負(fù)膠 | SU-8 2035 | 35-120μm | 100ml;250ml;500ml;1L |
MicroChem SU-8 負(fù)膠 | SU-8 2050 | 40-170μm | 100ml;250ml;500ml;1L |
MicroChem SU-8 負(fù)膠 | SU-8 2075 | 60-240μm | 100ml;250ml;500ml;1L |
MicroChem SU-8 負(fù)膠 | SU-8 2100 | 100-260μm | 100ml;250ml;500ml;1L |
MicroChem SU-8 負(fù)膠 | SU-8 3005 | 5-10μm | 100ml;250ml;500ml;1L |
MicroChem SU-8 負(fù)膠 | SU-8 3010 | 8-15μm | 100ml;250ml;500ml;1L |
MicroChem SU-8 負(fù)膠 | SU-8 3025 | 22-60μm | 100ml;250ml;500ml;1L |
MicroChem SU-8 負(fù)膠 | SU-8 3035 | 32-80μm | 100ml;250ml;500ml;1L |
MicroChem SU-8 負(fù)膠 | SU-8 3050 | 44-100μm | 100ml;250ml;500ml;1L |
Merck AZ 正/負(fù)可轉(zhuǎn)換型光刻膠 | AZ 5214 | 0.5-6μm | 100ml;500ml;1L;1加侖 |
AZ 50XT 正膠 | AZ 50XT | 40-80μm | 100ml;500ml;1夸脫 |
AZ 9260 正膠 | AZ 9260 | 6.2-15μm | 100ml;250ml;500ml;1L;1加侖 |
AZ2020正膠 | AZ nl0F2020 | >4μm | 1加侖 |
AZ1500正膠 | AZ 1500(4.4cp/20cp/38cp) | None | 1加侖 |
AZ9620/AZ4330正膠 | AZ 9620/AZ 4330 | None | 1加侖 |
MerckAZ1518正膠 | AZ 1518 | 1-4.3μm | 1加侖 |
AZ 4620 正膠 | AZ 4620 | 10-15μm | 100ml;500ml;1L; |
標(biāo)簽:   光刻膠 SU-8光刻膠
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