微流控芯片加工需要哪些設(shè)備?
微流控芯片最初起源于分析化學(xué)領(lǐng)域, 是一種采用精細(xì)加工技術(shù), 在數(shù)平方厘米的基片上制作出微腔體和微管道網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)及其它功能單元, 以實(shí)現(xiàn)集微量樣品制備、進(jìn)樣、反應(yīng)、分離及檢測(cè)于一體的快速、高效、低耗的微型分析實(shí)驗(yàn)裝置. 隨著微電子及微機(jī)械制作技術(shù)的不斷進(jìn)步, 近年來(lái)微流控芯片技術(shù)發(fā)展迅猛, 并開(kāi)始在化學(xué)、生命科學(xué)及醫(yī)學(xué)器件等領(lǐng)域發(fā)揮重要作用。那么,加工微流控芯片需要哪些設(shè)備呢?
一、光刻機(jī)
主要制作硅片材質(zhì)的微流控芯片。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對(duì)準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。在硅片表面勻膠,然后將掩模版上的圖形轉(zhuǎn)移光刻膠上的過(guò)程微通道結(jié)構(gòu)臨時(shí)“復(fù)制”到硅片上的過(guò)程。
二、注塑設(shè)備
PDMS芯片以其透氣、質(zhì)地柔軟、管道光滑和加工周期短等特性,成為諸多生化檢測(cè)領(lǐng)域產(chǎn)業(yè)化芯片的最佳材質(zhì)。可利用硅片模具、玻璃模具、金屬模具或塑料模具進(jìn)行PDMS芯片的注塑成型加工。
三、數(shù)控CNC設(shè)備
能夠加工高精度的聚合物材質(zhì)芯片產(chǎn)品(PMMA,PC,ABS,TEFLON等工程塑料)和金屬材質(zhì)(鋁、鎳和不銹鋼等),通道寬度最小極限為150μm,深度極限視加工特征定性,最大加工范圍為400*400*260cm,配合高精度檢測(cè)設(shè)備,控制產(chǎn)品尺寸精準(zhǔn),表面粗糙度微小,能夠滿足要求較高的實(shí)驗(yàn)需求。
四、烘膠設(shè)備
主要用于光刻工藝中的前烘和堅(jiān)膜。
五、勻膠設(shè)備
主要用于光刻勻膠工序,在高速旋轉(zhuǎn)的基片上,滴注各類膠液,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上。
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