光刻膠指光照后能具有抗蝕能力的高分子化合物，用于半導(dǎo)體基件表面產(chǎn)生電路的形狀。其配方通常是一個(gè)復(fù)雜的體系，主要包括感光物質(zhì)、樹(shù)脂和一些其他利于使用的材料和穩(wěn)定劑、阻聚劑、粘度控制劑、染料、增塑劑和化學(xué)增溶劑等。

當(dāng)光刻暴露在光源或者是紫外輻照源條件下時(shí)，其溶解度發(fā)生了變化：負(fù)型光刻蝕劑變?yōu)椴蝗埽凸饪棠z變?yōu)榭扇?。大多?shù)負(fù)型光刻蝕劑可以歸為兩種類(lèi)型，一種是二元體系：大量的聚異戊二烯樹(shù)脂和疊氮感光化合物；另外一種是一元體系：縮水甘油甲基丙烯和乙基丙烯酸酯的共聚物。前者是建立在酚醛樹(shù)脂和重氮萘醌感光物質(zhì)的基礎(chǔ)上的。使用248nm曝光波長(zhǎng)要求光刻膠使用乙酰氧基苯乙烯單體。通過(guò)4-乙酰氧基苯乙烯單體的自由基聚合，醋酸酯選擇性地轉(zhuǎn)換成酚醛，以及將其與其他反應(yīng)性單體的化合物，可以制備出許多用于遠(yuǎn)紫外光刻的聚合物。硅氧烷/硅倍半氧烷和碳氟化合物等材料在157nm曝光波長(zhǎng)時(shí)是相對(duì)透明的。預(yù)計(jì)未來(lái)幾年，使用聚羥基苯乙烯樹(shù)脂的化學(xué)增幅抗蝕劑將成為主流。遠(yuǎn)紫外光刻膠也是基于聚甲基丙烯酸甲酯和氟化高分子或者是二者之一。

通常說(shuō)來(lái)，感光化合物例如二芳基疊氮和重氮萘醌是易爆化學(xué)制品。所以，光刻膠的生產(chǎn)商一定要足夠小心以防爆炸。目前用于負(fù)型光刻膠的有機(jī)溶劑和顯影液對(duì)環(huán)境具有危害性，以致人們傾向于使用正型光刻膠。并且，其發(fā)展趨勢(shì)是替換掉具有危害的溶劑，而選用對(duì)環(huán)境無(wú)污染的無(wú)毒產(chǎn)品。在低密度遠(yuǎn)紫外輻照和其他替代i線和g線輻照源發(fā)展大趨勢(shì)的刺激下，化學(xué)增幅抗蝕劑成為一個(gè)發(fā)展快速的熱點(diǎn)領(lǐng)域。在化學(xué)增幅抗蝕劑領(lǐng)域，由于輻照源的匱乏，勢(shì)必導(dǎo)致一種催化的東西產(chǎn)生，通常為中子源。在曝光的加熱處理后，催化劑會(huì)引起樹(shù)脂中組分發(fā)生復(fù)雜反應(yīng)，這種反應(yīng)將最終產(chǎn)生光刻圖案。目前正型光刻膠體系和負(fù)型光刻膠體系都有了較好的發(fā)展。

      有些抗蝕體系含有多層成分，例如在基層和抗蝕劑之間含有一種膠粘劑促進(jìn)劑或者是最上層含有一層襯度增強(qiáng)層以保證其圖形的精細(xì)特征。顯影劑和剝離液的選擇取決于抗蝕劑的化學(xué)性質(zhì)和具體工藝流程。負(fù)型光刻膠體系的顯影劑通常是堿水溶液或者液體有機(jī)堿，如四甲基氫氧化銨。剝離液通常是強(qiáng)氧化劑，如過(guò)氧化物的酸性溶液，還有另外一種氯剝離液也被應(yīng)用。目前，使用氧等離子進(jìn)行剝離的工藝越來(lái)越多，但是應(yīng)該注意其輻射危害。